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产品简介
H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描，可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统。技术特点 单片式光学结构确保光通量**化，高光学稳定性 配备4型消像差单色仪光栅，全光谱范围线色散均匀 全自动蜗轮高速驱动光栅 光栅表面镀氟化镁膜，优化120nm以上波长的输出
典型应用 透射反射测量 荧光激发 可调滤波/光源 激光谐波滤波技术指标
光学设计 | HJY**的4型消像差单色仪光栅 |
焦长 | 200 mm |
孔径 | f/4.2 |
刻线密度 | 1200 gr/mm |
光学镀膜 | 针对121nm优化的MgF2膜 |
偏转角 | 64° |
色散 | 100nm处3.6 nm/mm |
驱动 | 高速蜗轮驱动 |
*小步进 | 0.06 nm |
速度 | 400 nm/s |
精度 | +/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*) |
可重复性 | +/-0.06 nm |
分辨率 | 优于0.5 nm (**) |
高真空 | 10-5 mbar (***) |
真空泵法兰 | DN40 KF |
入射/出射接口 | 测微狭缝(10 um 至 2 mm) |
入射/出射法兰 | DN25 KF |
电脑接口 | USB2.0 |
可选项 | |
超高真空 | 10-9 mbar |
狭缝高度调节器 | 2， 4， 6 mm |
(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度 | |
(**)使用宽10微米，高2mm的狭缝在121nm处测量 (***)H20-UVL不含真空泵和真空计 | |
附件 前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配 后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配 样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品 偏振插片 制冷机，*低至4K 真空泵
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